INOCAP
Innovative Nanoimprinting with Overlay Controlled for Advanced Packaging
Het INOCAP-project ontwikkelt een nieuwe generatie nano‑imprintlithografie (NIL) machine voor advanced semiconductor packaging. In een gezamenlijke studie van Morphotonics en TNO wordt een imprintconcept ontworpen met hogere processtabiliteit en minder vervorming voor panelen tot 700×700 mm. Dit moet leiden tot een prototype met ±1 µm overlay‑nauwkeurigheid, essentieel voor kostenefficiënte, afvalarme high‑volume chipproductie.
Achtergrond
De groeiende vraag naar rekenkracht vraagt om nieuwe productietechnologieën voor advanced semiconductor packaging. Nano‑imprint lithografie (NIL) biedt een schaalbaar en kostenefficiënt alternatief, maar wordt beperkt door onvoldoende overlay‑nauwkeurigheid en procescontrole. Morphotonics en TNO ontwikkelen een vernieuwd roll‑to‑plate imprintconcept waarin systeemanalyse, modellering en experimentele validatie worden gecombineerd om vervormingen te reduceren. Dit resulteert in een prototype met betere reproduceerbaarheid en een duidelijke route naar ±1 µm overlay‑nauwkeurigheid, een belangrijke stap richting toepassing van NIL in panel‑level semiconductor manufacturing en versterking van de Nederlandse positie in advanced packaging.