Quantum Sensing to characterize Integrated Graphene Photonic devices

Grafeen opschalen voor toepassingen in de praktijk

Black Semiconductor brengt grafeenfotonica van onderzoek naar productie in de praktijk op 300 mm CMOS‑wafers. Deze stap is essentieel om hoogwaardige apparaten op waferschaal mogelijk te maken, maar vereist diepgaand inzicht in het gedrag van grafeen binnen complexe productie‑stapels. Dit project levert dat inzicht en zet verborgen apparaateigenschappen om in toepasbare kennis voor industriële opschaling.

Quantum sensing maakt het onzichtbare zichtbaar

Grafeenapparaten worden elektrisch aangesloten via duizenden microscopische metalen via’s die begraven liggen onder dikke diëlektrische lagen. Hoewel apparaten op macroniveau kunnen functioneren, is het momenteel niet mogelijk om te weten of elke afzonderlijke via bijdraagt zoals bedoeld. Dit project brengt daar verandering in door de stroom op via‑niveau direct zichtbaar te maken en zo inactieve contacten, ongelijkmatige stroominjectie en verborgen inefficiënties bloot te leggen die van invloed zijn op opbrengst en betrouwbaarheid.

Opschalen naar high-volume productie van geïntegreerde grafeenfotonica

Door geavanceerde, fab‑compatibele stroombeeldvorming en modellering te introduceren, ondersteunt dit project snellere leercycli en slimmere procesbeslissingen. Het resultaat is een praktische karakterisatiemethode die past binnen pilot‑lines en productieomgevingen, en die Black Semiconductor helpt de uniformiteit te verbeteren, de opbrengst te verhogen en grafeenfotonica met vertrouwen richting grootschalige commerciële productie te brengen.