De functionele eigenschappen van moderne nano-devices, zoals producten uit de semiconductor industrie, zijn afhankelijk van parameters van hun interne structuur, zoals laagdikte, dichtheid en scherpte van grensvlakken tussen de lagen. Een afwijking van een dergelijke parameter voorbij de aanvaardbare toleranties - vaak in fracties van nanometers - zal direct ertoe leiden dat het device (de chip) niet meer goed functioneert.
Karakterisering van nano-structuren
De optimalisatie van het productieproces van dergelijke apparaten vereist een efficiënte en nauwkeurige metrologie, die in staat is alle essentiële parameters efficiënt te karakteriseren. Er zijn meerdere meettechnieken die individuele parameters kunnen analyseren, maar een alomvattende karakterisering van nano-structuren blijft een uitdaging.